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著者名鈴木 良尚, 長田 貴弘, 山下 良之, 生田目 俊秀, 小椋, 知京 豊裕.
タイトルTiO2/Ge 界面のGe拡散による影響
(Interface Ge diffusion effect on epitaxial growth of rutile type TiO2 on (100) Ge substrate)
会議名 Materials Research Society of Japan
発表年2015
言語Japanese
外部での文献参照

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