HOME > 口頭発表 > 書誌詳細TiO2/Ge 界面のGe拡散による影響(Interface Ge diffusion effect on epitaxial growth of rutile type TiO2 on (100) Ge substrate)鈴木 良尚, 長田 貴弘, 山下 良之, 生田目 俊秀, 小椋, 知京 豊裕. Materials Research Society of Japan. 2015.NIMS著者長田 貴弘山下 良之生田目 俊秀知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-01-08 04:54:10 +0900 更新時刻 :2017-07-10 22:19:42 +0900