Y2O3 Thin Film Deposited by Two-step Process and Its Resistance to Halogen Plasma
(二段階プロセスで作製したY2O3薄膜とそのハロゲンプラズマ耐性)
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 12:09:45 +0900更新時刻: 2022-09-05 12:09:45 +0900