HOME > その他の文献 > 書誌詳細ALD- (ZrO2)/(HfO2) ラミネートによる HfZrO2 強誘電体薄 膜の作製と電気特性(Characteristics and Fabrication of HfZrO2 Ferroelectric Thin Film Using ALD-(ZrO2)/(HfO2)Laminate)生田目 俊秀, 澤田 朋実, 女屋 崇, 塚越 一仁. セラミックス 61 [10] 702-706. 2026.Open Access Materials Data Repository (MDR) NIMS著者生田目 俊秀女屋 崇塚越 一仁Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセットMDRavailable ALD- (ZrO2)/(HfO2) ラミネートによる HfZrO2 強誘電体薄 膜の作製と電気特性 作成時刻: 2026-10-16 04:42:11 +0900 更新時刻: 2026-10-16 04:42:11 +0900