SAMURAI - NIMS Researchers Database

NIMS Awardシンポジウム2026

HOME > その他の文献 > 書誌詳細

ALD- (ZrO2)/(HfO2) ラミネートによる HfZrO2 強誘電体薄 膜の作製と電気特性
(Characteristics and Fabrication of HfZrO2 Ferroelectric Thin Film Using ALD-(ZrO2)/(HfO2)Laminate)

セラミックス 61 [10] 702-706. 2026.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


作成時刻: 2026-10-16 04:42:11 +0900 更新時刻: 2026-10-16 04:42:11 +0900

▲ページトップへ移動