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著者名Nobuo Tajima, Takahisa Ohno, Tomoyuki Hamada, Katsumi Yoneda, Seiichi Kondo, Nobuyoshi Kobayashi, Manabu Shinriki, Yoshiaki Inaishi, Kazuhiro Miyazawa, Kaoru Sakota, Satoshi Hasaka, Minoru Inoue.
タイトルCarbon-Doped Silicon Oxide Films with Hydrocarbon Network Bonds for Low-kDielectrics: Theoretical Investigations
掲載誌名Japanese Journal of Applied Physics 46 [9A] 5970-5974
ISSN: 13474065 00214922
発表年2007
言語English
ESIでのカテゴリPHYSICS
DOIhttps://doi.org/10.1143/jjap.46.5970
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