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Carbon-Doped Silicon Oxide Films with Hydrocarbon Netework Bonds for Low-k Dielectrics: Theoretical Investigations
(低誘電率材料のための炭化水素ネットワーク結合を有する炭化水素ドープ酸化ケイ素膜-理論的研究)

Nobuo Tajima, Takahisa Ohno, Tomoyuki Hamada, Katsumi Yoneda, Seiichi Kondo, Nobuyoshi Kobayashi, Manabu Shinriki, Yoshiaki Inaishi, Kazuhiro Miyazawa, Kaoru Sakota, Satoshi Hasaka, Minoru Inoue.
Japanese Journal of Applied Physics 46 [9A] 5970-5974. 2007.

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    作成時刻 :2016-05-24 15:18:56 +0900 更新時刻 :2020-11-16 23:04:59 +0900

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