HOME > 論文 > 書誌詳細Carbon-Doped Silicon Oxide Films with Hydrocarbon Netework Bonds for Low-k Dielectrics: Theoretical Investigations(低誘電率材料のための炭化水素ネットワーク結合を有する炭化水素ドープ酸化ケイ素膜-理論的研究)Nobuo Tajima, Takahisa Ohno, Tomoyuki Hamada, Katsumi Yoneda, Seiichi Kondo, Nobuyoshi Kobayashi, Manabu Shinriki, Yoshiaki Inaishi, Kazuhiro Miyazawa, Kaoru Sakota, Satoshi Hasaka, Minoru Inoue. Japanese Journal of Applied Physics 46 [9A] 5970-5974. 2007.https://doi.org/10.1143/jjap.46.5970 NIMS著者大野 隆央Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2016-05-24 15:18:56 +0900 更新時刻 :2020-11-16 23:04:59 +0900