HOME > 論文 > 書誌詳細X-ray emission induced by 60 keV high-flux negative copper ion implantation(大電流60 keV負銅イオン注入により誘起されるX線放出)AMEKURA, Hiroshi, Voitsenya V, Lay T T, TAKEDA, Yoshihiko, KISHIMOTO, Naoki. Japanese Journal of Applied Physics 1094-1096. 2001.NIMS著者雨倉 宏武田 良彦岸本 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-11-15 00:39:36 +0900更新時刻: 2022-11-15 00:39:36 +0900