Phase-controlled epitaxial lateral overgrowth of α-Ga2O3 by halide vapor phase epitaxy

著者	Yuichi Oshima, Katsuaki Kawara, Takayoshi Oshima, Mitsuru Okigawa, Takashi Shinohe.
掲載誌名	Japanese Journal of Applied Physics 59 [2] 025512 ISSN: 13474065, 00214922 ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社	IOP Publishing
発表年	2020
言語	English
DOI	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ab6faf
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