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Thickness- and orientation- dependences of Curie temperature in ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 films

Takanori Mimura, Takao Shimizu, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2020-03-11 03:00:18 +0900更新時刻: 2024-06-04 05:18:08 +0900

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