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Influence of Oxygen Transfer in Hf-based High-k Dielectrics on Flatband Voltage Shift
(Hfからなるhigh-k誘電体で酸素移動がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響)

Toshihide Nabatame, Masayuki Kimura, Hiroyuki Yamada, Akihiko Ohi, Tomoji Ohishi, Toyohiro Chikyow.
Thin Solid Films 520 [8] 3387-3391. 2012.
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2011.10.086

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    作成時刻: 2018-06-08 21:32:15 +0900更新時刻: 2024-04-01 23:15:41 +0900

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