HOME > 会議録 > 書誌詳細metastable atom stimulated desorption study of self-assembled monolayer resisits for nanolithography(ナノリソグラフィーのための自己組織化単分子膜レジストの準安定原子刺激脱離法による研究)YAMAUCHI, Yasushi, KURAHASHI, Mitsunori, SUZUKI, Taku. Proceedings of 7th international symposium on advanced physical fields . .NIMS著者山内 泰倉橋 光紀鈴木 拓Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-27 00:02:18 +0900更新時刻: 2017-03-17 02:07:10 +0900