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著者名UMEZAWA, Naoto, Kenji Shiraishi , Yasushi Akasaka, Seiji Inumiya, Akira Uedeno , Seiichi Miyazaki , CHIKYOW, Toyohiro, OHNO, Takahisa, Yasuo Nara, Keisaku Yamada .
タイトルReduction in Oxygen Vacancy Formation Energy Caused by Nitrogen Incorporation in Hf-based High-k Gate Dielectrics
発表誌名SISC ABSTRACT
発表年2005
言語English

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