HOME > 会議録 > 書誌詳細Valence band structure of III-V nitride films characterized by hard X-ray photoelectron spectroscopy(硬x線光電子分光によるIII-V族窒化物薄膜の価電子帯構造評価)M. Sumiya, M. Lozach, N. Matsuki, S. Ito, N. Ohhashi, K. Sakoda, H. Yoshikawa, S. Ueda, K. Kobayashi. PHYSICA STATUS SOLIDI C 1903-1905. 2010.https://doi.org/10.1002/pssc.200983596 NIMS著者角谷 正友迫田 和彰吉川 英樹上田 茂典Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-27 01:45:06 +0900更新時刻: 2024-12-12 05:46:20 +0900