高速CWレーザーアニール法を用いたGeおよびGeSn材料の結晶成⻑
(Growth of Ge and GeSn by high speed CW laser annealing)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2021-02-11 03:00:16 +0900更新時刻: 2021-02-11 03:00:16 +0900