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著者名UMEZAWA, Naoto, SHIRAISHI, Kenji, WATANABE, Heiji, Kazuyoshi, Yasushi Akasaka, Seiji Inumiya, Mauro Boero, Akira Uedono, Seiichi Miyazaki, OHNO, Takahisa, CHIKYOW, Toyohiro, YAMABE, Kikuo, Yasuo Nara, YAMADA, Keisaku.
タイトルExtensive Studies for the Effect of Nitrogen Incorporation into Hf-based High-k Gate Dielectrics
発表誌名ECS Transactions
発表年2006
言語English

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