HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Si2H6を用いたSiC薄膜の低温合成(Low Temperature Synthesis of SiC Thin Film from Si2H6)鈴木 裕, 荒木 弘, 土佐 正弘, 野田 哲二. 日本金属学会2006年秋期大会. 2006.NIMS著者鈴木 裕土佐 正弘Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:59:43 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:41:57 +0900