本研究では、プラズマイオンプレーティングという気相蒸着法によりAl-Si合金からのサイアロン薄膜の直接合成を試みて、その機械的特性、特に高温域での強度、耐熱性を明らかにすることを目的とする。本研究で用いる磁界励起型プラズマイオンプレーティング法では、真空容器内で電子ビームにより蒸発させたAl-Si蒸発粒子がアルゴンプラズマガス中を通過することでプラスの電荷を帯び、同じく雰囲気ガスである酸素・窒素混合ガスもプラズマでイオン化し、蒸発させたAl-Si蒸発粒子と直接反応させることで、加熱した各種基板上にサイアロン薄膜を作製するため、密着性の強い膜を作ることが出来る特徴がある。この際、問題となるのが、酸素・窒素ガスをイオン化するためのアルゴンガスに印加する高周波電源のプラズマ条件であり、また酸素・窒素混合ガスの圧力、混合比であると考えられ、その最適条件を探ることが重要である。磁界励起型プラズマイオンプレーティング装置を用いて、これまでにSi3N4製のベアリングボールへのTiN薄膜のコーティングやAl2O3、Si3N4基板へのBN薄膜の作製などについて研究を行ってきており、その実績は豊富である。また、提案者が所属する研究グループでは、セラミックス基バルク材料の高温での耐熱性、機械的特性ついても長く研究を行ってきており、その経験と手法は、本研究で提案しているプラズマイオンプレーティングによるサイアロン薄膜の高温での耐熱性、機械的特性の評価に大いに役立つものであり、研究の進展が期待される。