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Si/GeおよびGe/Siコアシェルナノワイヤへの選択ドーピングと応力評価
(Characterization of selective doping and stress in Si/Ge and Ge/Si core-shell nanowires)

深田 直樹, 三留 正則, 関口 隆史, 板東 義雄, Melanie Kirkham, Jung-il Hong, Zhong Lin Wang, Robert Snyder.
TNT Japan. 2014.

NIMS著者


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    作成時刻 :2017-02-14 11:05:21 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:49:58 +0900

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