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著者名FUKATA, Naoki, MITOME, Masanori, SEKIGUCHI, Takashi, BANDO, Yoshio, Melanie Kirkham, Jung-il Hong, Zhong Lin Wang, Robert Snyder.
タイトルCharacterization of selective doping and stress in Si/Ge and Ge/Si core-shell nanowires
(Si/GeおよびGe/Siコアシェルナノワイヤへの選択ドーピングと応力評価)
会議名TNT Japan
発表年2014
言語English
外部での文献参照

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