HOME > Presentation > DetailHigh-k酸化膜の酸素拡散とフラットバンド電圧シフトの関係(Correlationship between oxygen diffusion of High-k films and Vfb shift)生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 山田 博之, 木村 将之, 大石知司. 日本金属学会 2011年春期大会. 2011.NIMS author(s)NABATAME, ToshihideOHI, AkihikoCHIKYO, ToyohiroFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 11:20:39 +0900Updated at: 2018-06-05 12:51:35 +0900