HOME > 口頭発表 > 書誌詳細極低角度入射ビームオージェ深さ方向分析によるHfO2薄膜/Si基板構造の分析(Auger Depth Profiling Analysis of HfO2/Si Thin Film Using an Ultra Low Angle Incidence Beam)荻原 俊弥, 長田 貴弘, 吉川 英樹. 日本分析化学会第65年会. 2016.NIMS著者荻原 俊弥長田 貴弘吉川 英樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 10:57:10 +0900 更新時刻 :2017-07-10 22:25:35 +0900