強磁場中EPDによる配向制御した緻密なTi3SiC2薄膜形成
(Textured Ti3SiC2 dense thin films fabricated by EPD in a strong magnetic field)
日本セラミックス協会秋季シンポジウム. 2012年09月19日-2012年09月21日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-01-08 04:10:32 +0900 更新時刻: 2018-06-05 13:14:19 +0900