HOME > Presentation > Detail強磁場中EPDによる配向制御した緻密なTi3SiC2薄膜形成(Textured Ti3SiC2 dense thin films fabricated by EPD in a strong magnetic field)ミシュラ ムリナリニ, 目 義雄, 佐藤 仁俊, 鈴木 達, 打越 哲郎. 日本セラミックス協会秋季シンポジウム. September 19, 2012-September 21, 2012.NIMS author(s)SAKKA, YoshioSUZUKI, TohruUCHIKOSHI, TetsuoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:10:32 +0900 Updated at: 2018-06-05 13:14:19 +0900