HOME > 口頭発表 > 書誌詳細分子線堆積法による IV 族カルコゲナイド薄膜の絶縁膜上成長松村 亮, 張 秦強, マー ボウエン, マームード アーメド モハメド フアード, 深田 直樹. 第85回応用物理学会秋季学術講演会. 2024年09月16日-2024年09月20日.NIMS著者松村 亮マー ボウエンマームード アーメド深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2024-09-25 03:10:01 +0900 更新時刻: 2024-09-25 03:10:01 +0900
