HOME > Presentation > Detail分子線堆積法による IV 族カルコゲナイド薄膜の絶縁膜上成長松村 亮, 張 秦強, マー ボウエン, マームード アーメド モハメド フアード, 深田 直樹. 第85回応用物理学会秋季学術講演会. September 16, 2024-September 20, 2024.NIMS author(s)MATSUMURA, RyoMA, BowenAhmed MahmoudFUKATA, NaokiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2024-09-25 03:10:01 +0900 Updated at: 2024-09-25 03:10:01 +0900