大気圧プラズマCVD法によるGaN薄膜の作製
(Fabrication of GaN films by Near-Atmospheric Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition)
2005年秋季 第66回応用物理学会学術講演会. 2005.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:23:21 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:25:24 +0900