HOME > 口頭発表 > 書誌詳細シリコンナノワイヤ中のP原子の熱酸化過程での偏析挙動(Segregation behavior of phosphorus atoms in silicon nanowires during thermal oxidation)神永 惇, 滝口亮, 鈴木 慶太郎, 菱田 俊一, 関口 隆史, 村上浩一, 深田 直樹. 第60回応用物理学会春季学術講演会. 2013.NIMS著者菱田 俊一深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:45:21 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:22:12 +0900