原子線リソグラフィにおける自己組織化単分子膜レジストでのポシーネガ転換：FT-IRスペクトルとAFM観察
(Positive-Negative Inversion of the Self-Assembled Monolayer (SAM) Resists in Atom Lithography: the FT-IR Spectra and the AFM Obs)
応用物理学会2003 Fall meeting. 2003年08月30日-2003年09月02日.
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作成時刻: 2017-02-18 03:33:40 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:47:01 +0900