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著者名梅澤 直人, 白石 賢二, 赤坂泰志 , 犬宮 誠治, 上殿 明良, 宮崎 誠一, 知京 豊裕, 大野 隆央, 奈良 安雄, 山田 啓作.
タイトルHfを基礎としたHigh-kゲート絶縁膜中の酸素空孔の形成を促進する窒素添加の悪影響
(An Unfavorable Effect of Nitrogen Incorporation on Accelerating Oxygen Vacancy Formation in Hf-based High-k Gate Dielectrics)
会議名ゲートスタック研究会
発表年2006
言語Japanese
外部での文献参照

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