First-Principles Study on the mechanism of Halogen atom diffusion on Si(111) surface
10th International Conference on Atomically Controlled Surfaces. 2009年09月21日-2009年09月25日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:35:10 +0900 更新時刻: 2017-07-10 20:37:30 +0900