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熱酸化過程でのSiナノワイヤ中のPおよびBの偏析挙動
(Segregation behaviors of P and B in Si nanowires during thermal oxidation)

瀬岡雅典, 深田 直樹, 齋藤直之, 陳 君, 関口 隆史, 村上浩一.
2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演会. 2008.

NIMS著者


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    作成時刻: 2017-02-14 11:29:00 +0900更新時刻: 2018-06-05 12:18:14 +0900

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