HOME > 口頭発表 > 書誌詳細熱酸化過程でのSiナノワイヤ中のPおよびBの偏析挙動(Segregation behaviors of P and B in Si nanowires during thermal oxidation)瀬岡雅典, 深田 直樹, 齋藤直之, 陳 君, 関口 隆史, 村上浩一. 2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演会. 2008.NIMS著者深田 直樹陳 君Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:29:00 +0900更新時刻: 2018-06-05 12:18:14 +0900