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低温成長SiO2でパッシベーションされたシリコン表面に対する水素ラジカル処理の効果
(Impacts of hydrogen radical treatment for SiO2 deposited on silicon by low temperature process)

池野 成裕, 土屋祐樹, 立花福久, 鈴木摂, 石橋啓次, 長田 貴弘, 小椋厚志, 知京 豊裕.
INC8. 2012.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻 :2017-02-14 11:20:00 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:20:58 +0900

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