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低温成長SiO2でパッシベーションされたシリコン表面に対する水素ラジカル処理の効果
(Impacts of hydrogen radical treatment for SiO2 deposited on silicon by low temperature process)
INC8. 2012.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2017-02-14 11:20:00 +0900Updated at: 2017-07-10 21:20:58 +0900