High-k/SiO2スタック構造におけるHigh-k層の酸素拡散がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響
(Influence of oxygen diffusion in High-k layer on flatband voltage shift for High-k/SiO2 stack structure)
2012年 秋季 第73回応用物理学会学術講演会. 2012.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-14 11:02:41 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:23:28 +0900