HOME > Presentation > Detail
High-k/SiO2スタック構造におけるHigh-k層の酸素拡散がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響
(Influence of oxygen diffusion in High-k layer on flatband voltage shift for High-k/SiO2 stack structure)
2012年 秋季 第73回応用物理学会学術講演会. September 11, 2012-September 14, 2012.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2017-02-14 11:02:41 +0900 Updated at: 2017-07-10 21:23:28 +0900