HOME > 口頭発表 > 書誌詳細フォトリソグラフィー法を用いたREBCOマルチフィラメント薄膜の開発(Development of REBCO patterned multi-filamentary thin film using photolithography method)松本 明善, 立木 実, 大井 修一, 寺西亮, 波多聰, 郭子萌, 高紅叶, 井上昌睦. 第84回応用物理学会秋季学術講演会. 2023年09月19日-2023年09月23日.NIMS著者松本 明善立木 実大井 修一Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2023-10-14 03:08:36 +0900更新時刻: 2023-10-14 03:08:36 +0900