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著者名深田 直樹, 大島崇, 岡田直也, 木塚徳志, 鶴井隆雄, 伊藤俊, 関口 隆史, 村上浩一.
タイトルシリコンナノ細線中の熱酸化応力誘起とフォノン閉じ込め効果
(Stress induction and phonon confinement in thermally oxidized silicon nanowires)
会議名結晶加工と評価技術第145委員会 第105回研究会
発表年2006
言語Japanese
外部での文献参照

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