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シリコンナノ細線中の熱酸化応力誘起とフォノン閉じ込め効果
(Stress induction and phonon confinement in thermally oxidized silicon nanowires)
結晶加工と評価技術第145委員会 第105回研究会. 2006. Invited
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Created at: 2017-01-08 04:34:31 +0900Updated at: 2024-03-05 11:40:56 +0900