HOME > 口頭発表 > 書誌詳細n型ダイヤモンド薄膜およびダイヤモンドデバイスの耐X線・γ線特性(X- and gamma-ray hardness of phosphorus doped n-type diamond thin films and diamond devices)大谷 亮太, 廖 梅勇, 上野克宜, 佐々木敬介, 田所孝広, 坪田雅功, 金子純一, 小泉 聡. 第63回応用物理学会春季学術講演会. 2016年03月19日-2016年03月22日.NIMS著者廖 梅勇小泉 聡Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:23:42 +0900更新時刻: 2018-06-05 13:55:22 +0900