HOME > Presentation > Detailn型ダイヤモンド薄膜およびダイヤモンドデバイスの耐X線・γ線特性(X- and gamma-ray hardness of phosphorus doped n-type diamond thin films and diamond devices)大谷 亮太, 廖 梅勇, 上野克宜, 佐々木敬介, 田所孝広, 坪田雅功, 金子純一, 小泉 聡. 第63回応用物理学会春季学術講演会. March 19, 2016-March 22, 2016.NIMS author(s)LIAO, MeiyongKOIZUMI, SatoshiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:23:42 +0900Updated at: 2018-06-05 13:55:22 +0900