60 keV Ni負イオン注入したシリカガラスの光学的・磁気的性質
(Optical and Magnetic Properties of SiO2 Implanted with Ni Negative-ions of 60 keV)
2002年秋季第63回応用物理学会学術講演会. 2002年09月24日-2002年09月27日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 02:43:34 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:27:59 +0900