HOME > 口頭発表 > 書誌詳細SiOCH膜の膜特性へのSi-H原子団除去効果:理論的研究(Si-H Group Elimination Effect on the Properties of SiOCH Films: Theoretical Study)田島 暢夫, 大野 隆央, 神力学, 徐永華. SSDM 2008. 2008年09月24日-2008年09月26日.NIMS著者田島 暢夫Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:11:00 +0900 更新時刻: 2017-07-10 20:18:02 +0900