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著者名TAJIMA, Nobuo, OHNO, Takahisa, SHINRIKI Manabu, XU Yonghua.
タイトルSi-H Group Elimination Effect on the Properties of SiOCH Films: Theoretical Study
(SiOCH膜の膜特性へのSi-H原子団除去効果:理論的研究)
会議名SSDM 2008
発表年2008
言語English
外部での文献参照

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