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HfSiO x 絶縁膜 の GaN パワーデバイス における n GaN/HfSiO x 界面の構造解析
第2回結晶工学×ISYSE合同研究会. 2019-11-20.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2019-12-06 03:00:21 +0900Updated at: 2019-12-06 03:00:21 +0900