HOME > 口頭発表 > 書誌詳細電気化学的シリコン酸化膜成長(In situ Observation of Electrochemical Growth of Si Oxide by Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy)増田 卓也, 吉川 英樹, 野口 秀典, 川崎忠寛, 小畠 雅明, 小林 啓介, 魚崎 浩平. 65th Annual Meeting. 2014.NIMS著者増田 卓也吉川 英樹野口 秀典魚崎 浩平Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:33:43 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:57:02 +0900