HOME > Presentation > Detail先端CMOS向けメタル/High-kゲートスタック技術(Metal/High-k Gate Stack Technology for Advanced CMOS)生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕. 第76回半導体・集積回路技術シンポジウム. 2012. InvitedNIMS author(s)NABATAME, ToshihideOHI, AkihikoCHIKYO, ToyohiroFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 11:19:31 +0900Updated at: 2024-03-05 11:44:02 +0900