HOME > 口頭発表 > 詳細HVPE法によるScNの成長と評価(Hydride Vapor Phase Epitaxy and characterization of High-Quality ScN epilayers)著者大島 祐一, ビジョラ ガルシア, 島村 清史. 会議名International Workshop on Nitride semiconductors 2014発表年2014言語Japanese
