Super high-dielectric constant Al2O3/TiO2 nanolaminates deposited by the atomic layer deposition technique (for diamond MOSFETs)
マテリアル先端リサーチインフラ オンラインセミナー 『原子層堆積技術（ALD）による成膜技術』. 2021-12-22.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-01-10 03:08:27 +0900更新時刻: 2022-01-10 03:08:27 +0900