HOME > Presentation > Detailメタル/High-kトランジスタにおけるゲート絶縁膜としてのALD-TiO2膜(ALD-TiO2 as gate insulator for Metal/High-k transistor)生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕. NIMS Conference 2013. July 01, 2013-July 03, 2013. InvitedNIMS author(s)NABATAME, ToshihideOHI, AkihikoCHIKYO, ToyohiroFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 03:33:01 +0900Updated at: 2024-03-05 11:44:33 +0900