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メタル/High-kトランジスタにおけるゲート絶縁膜としてのALD-TiO2膜
(ALD-TiO2 as gate insulator for Metal/High-k transistor)

生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕.
NIMS Conference 2013. July 01, 2013-July 03, 2013. Invited

NIMS author(s)


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    Created at: 2017-01-08 03:33:01 +0900Updated at: 2024-03-05 11:44:33 +0900

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