HOME > Presentation > Detail二段階プロセスで成膜したイットリア薄膜の結晶性とフッ素系ハロゲンプラズマ耐性(Crystallinity and fluoride-plasma-resistance of yttria thin film grown by two-step process)石井 真史, 池田 直樹, 津谷 大樹, 櫻井 健次. 第26回希土類討論会. May 28, 2009-May 29, 2009.NIMS author(s)ISHII, MasashiIKEDA, NaokiTSUYA, DaijuFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 11:15:45 +0900 Updated at: 2017-07-10 20:30:19 +0900