HOME > 口頭発表 > 書誌詳細二段階プロセスで成膜したイットリア薄膜の結晶性とフッ素系ハロゲンプラズマ耐性(Crystallinity and fluoride-plasma-resistance of yttria thin film grown by two-step process)石井 真史, 池田 直樹, 津谷 大樹, 櫻井 健次. 第26回希土類討論会. 2009.NIMS著者石井 真史池田 直樹津谷 大樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:15:45 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:30:19 +0900