Plasma Enhanced ALD法によるhigh-k絶縁膜の低温度作製
(Low-temperature growth of high-k gate insulator by Plasma-Enhanced ALD)
日本金属学会2012年春期(第150回)大会. 2012.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:37:06 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:15:13 +0900