HOME > 口頭発表 > 書誌詳細MBE法により酸化亜鉛基板上へ作製した窒化インヂウム薄膜の構造(Structure of InN films grown on single crystalline ZnO substrates prepared by molecular beam epitaxy)大垣 武, 両見 春樹, 大橋 直樹, 坂口 勲, 関口 隆史, 羽田 肇. 日本セラミックス協会2005年年会. 2005.NIMS著者大垣 武大橋 直樹坂口 勲羽田 肇Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:50:27 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:15:23 +0900