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著者名大垣 武, 両見 春樹, 大橋 直樹, 坂口 勲, 関口 隆史, 羽田 肇.
タイトルMBE法により酸化亜鉛基板上へ作製した窒化インヂウム薄膜の構造
(Structure of InN films grown on single crystalline ZnO substrates prepared by molecular beam epitaxy)
会議名日本セラミックス協会2005年年会
発表年2005
言語Japanese
外部での文献参照

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