HOME > Presentation > DetailMBE法により酸化亜鉛基板上へ作製した窒化インヂウム薄膜の構造(Structure of InN films grown on single crystalline ZnO substrates prepared by molecular beam epitaxy)大垣 武, 両見 春樹, 大橋 直樹, 坂口 勲, 関口 隆史, 羽田 肇. 日本セラミックス協会2005年年会. March 22, 2005-March 24, 2005.NIMS author(s)OGAKI, TakeshiOHASHI, NaokiSAKAGUCHI, IsaoHANEDA, HajimeFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 03:50:27 +0900Updated at: 2017-07-10 19:15:23 +0900