HOME > 口頭発表 > 詳細スパッタ法で作製した(Al,Sc)N薄膜中の不純物酸素の検討(Study on oxygen impurity in (Al,Sc)N thin films fabricated by sputtering technique)著者長谷川 浩太, 清水 荘雄, 大澤 健男, 坂口 勲, 大橋 直樹. 会議名2022年 第83回応用物理学会秋季学術講演会発表年2022言語Japanese