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スパッタ法で作製した(Al,Sc)N薄膜中の不純物酸素の検討
(Study on oxygen impurity in (Al,Sc)N thin films fabricated by sputtering technique)

著者長谷川 浩太, 清水 荘雄, 大澤 健男, 坂口 勲, 大橋 直樹.
会議名2022年 第83回応用物理学会秋季学術講演会
発表年2022
言語Japanese

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