HOME > 口頭発表 > 詳細ヘリウムイオン照射グラフェンにおける磁気抵抗のドーズ量依存性著者岩崎 拓哉, マノハラン ムルガナタン, 中村 周, 赤堀 誠志, 守田 佳史, 森山 悟士, 小川 真一, 水田 博, 若山 裕, 中払 周. 会議名第66回応用物理学会春季学術講演会発表年2019言語Japanese
