HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ヘリウムイオン照射グラフェンにおける磁気抵抗のドーズ量依存性中村 周, 岩崎 拓哉, マノハラン ムルガナタン, 赤堀 誠志, 守田 佳史, 森山 悟士, 小川 真一, 若山 裕, 水田 博, 中払 周. 第66回応用物理学会春季学術講演会. 2019年03月09日-2019年03月12日.NIMS著者岩崎 拓哉若山 裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2020-01-09 03:00:25 +0900更新時刻: 2020-01-09 03:00:25 +0900
