SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 詳細

ヘリウムイオン照射グラフェンにおける磁気抵抗のドーズ量依存性

著者岩崎 拓哉, マノハラン ムルガナタン, 中村 周, 赤堀 誠志, 守田 佳史, 森山 悟士, 小川 真一, 水田 博, 若山 裕, 中払 周.
会議名第66回応用物理学会春季学術講演会
発表年2019
言語Japanese

▲ページトップへ移動