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著者名中村 周, 岩崎 拓哉, マノハラン ムルガナタン, 赤堀 誠志, 守田 佳史, 森山 悟士, 小川 真一, 若山 裕, 水田 博, 中払 周.
タイトルヘリウムイオン照射グラフェンにおける磁気抵抗のドーズ量依存性
会議名第66回応用物理学会春季学術講演会
発表年2019
言語Japanese
外部での文献参照

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